2000

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, and Kunihito Nagayama
"Growth of a-C:H Thin Films by Pulsed Laser Ablation of a PMMA Target"
Report of Institute for Ionized Gas and Laser Research, Kyushu University, No. 10, pp. 37-38, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Tatsuya Nagamoto, Gousuke Shiraishi and Kunihito Nagayama
"Microstructure of beta-FeSi2 Thin Films on Si(100) Deposited by Pulsed Laser Deposition using an FeSi2 alloy target"
Report of Institute for Ionized Gas and Laser Research, Kyushu University, No. 10, pp. 35-36, 2000.

岩佐宗八、林 宏充、吉武 剛、植田清隆、樋口貞雄、竹下博人、澤田秀一
”PLD法を用いた光変成器”
電離気体実験施設報告書、第10号、57-58頁、2000.

草野修、山下大介、鈴木俊平、吉武剛、植田清隆
”レーザー蒸着法によるYBCO高温超電導薄膜線材の開発”
電離気体実験施設報告書、第10号、51-52頁、2000.

吉武 剛、西山貴史、原 武嗣、永山邦仁
”ArFエキシマレーザーを用いたレーザーアブレーション法によりダイヤモンド薄膜のホモ成長”
九州大学総合理工学研究府報告、第22巻、第2号、173-176頁、2000.

T. Sadoh, Y. Yoshikado, T. Hanada, A. Kenjo, T. Yoshitake, and M. Miyao
"Influence of substrate orientation on solid phase regrowth of FeSi2 on Si "
Proceeding of Japan-UK Joint Workshop on Kankyo-Semiconductors, pp. 39-41, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Gousuke Shiraishi, and Kunihito Nagayama
"Growth of beta-FeSi2 thin films on Si (111) substrates by pulsed laser deposition "
Proceeding of Japan-UK Joint Workshop on Kankyo-Semiconductors, pp. 7-9, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, and Kunihito Nagayama
“The Role of Hydrogen and Oxygen Gas in the Growth of Carbon Thin Films by Pulsed Laser Deposition”
Diamond Related. Mater., 9, pp. 689-692, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama and Kunihito Nagayama
"Diamond-Like Carbon Thin Films Prepared by Pulsed Laser Ablation of a PMMA and a Polyethylene Targets"
Transactions of the Materials Research Society of Japan, Volume 25 [1], pp. 321-324, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Toshifumi Hanada and Kunihito Nagayama
"Low Temperature Growth of beta-FeSi2 Films on Si(111) by RF Magnetron Sputtering Using a FeSi2 Alloy Target "
J. Mater. Sci. Lett., 19, pp. 537-538, 2000

Tsuyoshi Yoshitake, Tatsuya Nagamoto and Kunihito Nagayama
" Low Temperature Growth of b-FeSi2 Thin Films on Si(100) by Pulsed Laser Deposition"
Mater. Sci. Eng. B, Volume 72, Issues 2-3, pp. 124-127, 15 March 2000.

吉武 剛、永元達也、白石豪介、永山邦仁
”レーザーアブレーション法によるFeSi2合金ターゲットを用いたbeta-FeSi2薄膜の作製とその構造評価”
レーザー研究、第28巻、第2号、pp. 103-107, 2000.

三宅 潔、牧田雄之介、吉武 剛
”最近の環境半導体の動向”
レーザー研究、第28巻、第2号、pp. 77-81, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama and Kunihito Nagayama
” Growth of DLC Thin Films in Hydrogen Atmosphere by Pulsed Laser Ablation of a PMMA Target”
J. Mater. Sci. Lett.,19 (6), pp. 489-490, 2000.

Tsuyoshi Yoshitake
" Ion probe measurement of Fe species ejected by KrF laser ablation of Fe in ambient nitrogen gas "
J. Mater. Sci., 35 (6), pp. 1469-1474, 2000.

1999

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, Hajime Aoki, Koji Suizu, Koji Takahashi, and Kunihito Nagayama
" Carbon Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition "
Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol. 24, No. 4, pp. 599-602, 1999.

Tsuyoshi Yoshitake, Tatsuya Nagamoto and Kunihito Nagayama
" Fabrication of beta-FeSi2 Thin Films by Pulsed Laser Deposition "
Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol. 24, No.4, pp. 579-582, 1999.

西山貴史、吉武 剛、永山邦仁
” PLD法におけるカーボン薄膜成長に及ぼす雰囲気水素ガスの効果”
電離気体実験施設報告書、第9号、45-46頁、1999年.

Tsuyoshi Yoshitake, Tatsuya Nagamoto, Gousuke Shiraishi, and Kunihito Nagayama
" Low Temperature Growth of Ecological Semiconductor beta-FeSi2 Thin Films by Pulsed Laser Deposition "
Report of Institute for Ionized Gas and Laser Research, Kyushu University, No. 9, pp. 43-44, 1999.

吉武剛、永元達也、白石豪介、永山邦仁
”レーザーアブレーション法による環境考慮型半導体beta-FeSi2薄膜の作成とその微細構造”
九州大学総合理工学研究科報告、第21巻、第3号、247-256頁、平成11年12月

Toshifumi Hanada, Tsuyoshi Yoshitake, and Kunihito Nagayama
" LOW TEMPERATURE GROWTH OF BETA-FESI2 THIN FILMS ON SI (111)  BY RF MAGNETRON SPUTTRING USING AN IRON SILICIDE ALLOY TARGET"
Proceeding of Cross Straits Symposium on Materials, Energy and Environment Sciences, pp. 111-112, November 1999.

Gousuke Shiraishi, Tsuyoshi Yoshitake, and Kunihito Nagayama
" STRUCTURAL CHARACTERIZATION OF BETA-FESI2 THIN FILMS PREPAERED BY PULSED LASER DEPOSITION USING AN IRON SILICIDE ALLOY TARGET "
Proceeding of Cross Straits Symposium on Materials, Energy and Environment Sciences, pp. 103-104, November 1999.

Takashi Nishiyama, Tsuyoshi Yoshitake, and Kunihito Nagayama
" GROWTH OF DIAMOND-LIKE CARBON FILMS IN HYDROGEN AND OXYGEN ATMOSPHERE  BY PULSED LASER DEPOSITION USING A GRAPHITE TARGET"
Proceeding of Cross Straits Symposium on Materials, Energy and Environment Sciences, pp. 101-102, November 1999.

Tsuyoshi Yoshitake, Tatsuya Nagamoto and Kunihito Nagayama
" Low Temperature Synthesis of beta-FeSi2 Thin Films by Pulsed Laser Deposition "
J. Mater. Sci. Lett., 18, pp. 1755-1756, November 1999.

吉武剛、西山貴史、青木肇、水津光司、高橋厚史、永山邦仁
”レーザーアブレーション法によるカーボン薄膜の作成とその評価”
電気学会論文誌、A119, 8/9月号, 1147–1155頁、1999年.

永元達也、吉武 剛、永山邦仁
“レーザーアブレーション法を用いた環境考慮型半導体beta-FeSi2薄膜の作成とその膜構造”
超高圧電顕室研究報告書、No. 23、79-80頁、1999.

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, Hajime Aoki, Koji Suizu, Koji Takahashi, and Kunihito Nagayama
" Microstructure of Carbon Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition "
Annual Reports. HVEM LAB., Kyushu University, No. 23, pp. 17-18, 1999.

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, Hajime Aoki, Koji Suizu, Koji Takahashi, and Kunihito Nagayama
" The Effect of the substrate temperature and the laser wavelength on the formation of carbon thin films by pulsed laser deposition "
Diamond. Relat. Mater., 8, pp. 463-467, 1999.

吉武 剛
”レーザーアブレーション法による環境半導体beta-FeSi2薄膜の作成”
（財）福岡県産業・科学技術振興事業団 テーマ探索・シーズ発掘事業 研究成果報告書、31-58頁、平成11年3月

永元達也、吉武剛、永山邦仁
”レーザーアブレーション法を用いた環境半導体beta-FeSi2薄膜の低温成長”
九州大学工学集報、第72巻、第2号、95-100頁 平成11年3月

西山貴史、吉武 剛、青木肇、水津光司、高橋厚史、永山邦仁
”レーザーアブレーション法によるカーボン薄膜の作成とその評価”
九州大学総合理工学研究科報告、第20巻 第4号 309-316頁 平成11年3月

Tsuyoshi Yoshitake, Takashi Nishiyama, Hajime Aoki, Koji Suizu, Koji Takahashi, and Kunihito Nagayama
" Atomic Force Microscope Study of Carbon Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition"
Appl.Surf.Sci., 141, pp. 129-137, 1999.
 

1998

吉武 剛、西山貴史、青木肇、水津光司、高橋厚史、永山邦仁
”レーザーアブレーション法によるカーボン薄膜の作成とその評価”
電離気体実験施設報告書、第8号、31-32頁（平10. 7）

永元達也
”PLD法によるFe / Si人工格子膜の作成とその構造評価”
ベンチャービジネスラボラトリー報告書（平10. 4）

Department of Applied Science for Electronics and Materials, Kyushu University